Sold Out

HANYUL Pure Artemisia Clay to Foam 15 ml

101.01 грн.

HANYUL Pure Artemisia Clay to Foam 15 ml, маска-пенка для умывания с экстрактом молодой полыни

туба 15 мл

Нет в наличии

Оповестить о поступлении товара
Добавить в список желаний
Добавить в список желаний

Описание

HANYUL Pure Artemisia Clay to Foam 15 ml, маска-пенка для умывания с экстрактом молодой полыни

Маска/пенка для умывания HANYUL Pure Artemisia Clay to Foam 15 ml с экстрактом молодой полыни люксового бренда самой традиционной натуральной корейской косметики выполняет 2  функции:  глиняная маска и пенка для умывания.

Средство глубоко очищает и осветляет тусклый оттенок кожи благодаря содержанию глиняного компонента и  артемизии – ферментированный экстракт молодой полыни Young wormwood Kaoru™, и экстракта зеленого чая. Традиционная ферментация – основа концепции ухода за кожей. Ферменты обогащают конечный продукт аминокислотами, жировыми кислотами, витаминами и предохраняют продукцию от развития патогенных бактерий. Содержащиеся в экстракте полыни терпеноидные соединения оказывают выраженный тонизирующий, антисептический и противовоспалительный эффект. Масло полыни уменьшает выработку секрета сальными железами; за счет инулина и азулена снижает симптомы раздражения (включая аллергические) и способствует регенерации ткани; повышает сопротивляемость эпидермиса к неблагоприятным воздействиям окружающей среды и фактором старения. Пенка для умывания защищает и сохраняет здоровье кожи, укрепляет иммунитет, создает защитный барьер от агрессивного воздействия окружающей среды. Пенка смывает ежедневные загрязнения, смягчает и успокаивает раздраженную кожу, снимает раздражения и насыщает ее влагой, не содержит парабенов, искусственных красителей, минеральных масел, материалов животного происхождения, бензофенона.

Мягкая текстура пенки сохраняет кожу увлажненной даже после очищения, не дает появиться ощущению стянутости.

Отзывы

Отзывов пока нет.

Будьте первым, кто оставил отзыв на “HANYUL Pure Artemisia Clay to Foam 15 ml”

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *